国際チームがガリウム高ドープゲルマニウムエピタキシャル薄膜における超伝導を達成
国際研究チームが、ガリウムを高濃度に添加したゲルマニウム薄膜で超伝導性を実現することに成功しました。この材料は極低温下で電気抵抗がゼロになり、量子コンピュータの基本部品であるジョセ…
分子線エピタキシーに関する記事2本を、新しい順に掲載しています。

ドイツのフォトニクス企業Innolumeが、量子ドットレーザーの生産拡大のためVeeco社の分子線エピタキシー装置を発注しました。量子ドットレーザーは従来の量子井戸レーザーより高性能で、AI向けデータセンターの光インター…
国際研究チームが、ガリウムを高濃度に添加したゲルマニウム薄膜で超伝導性を実現することに成功しました。この材料は極低温下で電気抵抗がゼロになり、量子コンピュータの基本部品であるジョセ…